自动关联目录：光照与烘焙

覆盖说明：本篇合并了原方案里的 光照与烘焙 与 反射与 GI 两篇——核心内容已在 Lumen 与后处理与体积中覆盖，本篇只做决策与代价层面的横向对比，不重复写。

1. 定位

光照方案的选择是 UE 项目里最早、也最难改的一个决定：它决定了资产制作流程、运行时成本、以及能不能热更。

一句话定位：**先在"烘焙"和"动态（Lumen）"之间做选择，再谈具体参数。**这个选择一旦做错，后期返工量极大。

2. 三种可动性（Mobility）

可动性	直接光	阴影	间接光	运行时成本
Static	烘焙进 lightmap	烘焙	烘焙	几乎为零
Stationary	动态	动态（传统路径）	烘焙	中等
Movable	动态	动态	动态（Lumen 或没有）	最高

关键变化（已核实，见 VSM）：启用虚拟阴影贴图后，Stationary 光源的直接光与阴影按动态计算（等同 Movable），只有间接漫反射仍来自烘焙 lightmap。

另一个关键事实（见 Lumen）：启用 Lumen 后，Static 光源完全不可用——它们整个存在 lightmap 里，而 Lumen 会禁用预计算静态光照贡献并隐藏所有光照贴图。

3. 方案对比

全局光照

方案	质量	运行时成本	是否需要烘焙	适用场景
烘焙（Lightmass / GPU Lightmass）	静态场景很好	几乎为零	是	移动端、固定光照、性能预算紧
Lumen GI	全动态、无限反弹	固定 GPU 开销	否	次世代主机与高端桌面，需要动态光照
SSGI	一般	低	否（但官方建议与烘焙叠加）	作为烘焙的补充
Ray Tracing GI	高	高	否	已弃用

反射

方案	特点	成本
Reflection Capture	放置式，静态，便宜	低（烘焙后）
Lumen Reflections	全动态、全粗糙度范围	中—高
SSR	屏幕空间，画面外信息丢失	低
Ray Tracing Reflections	质量最高	已弃用

阴影

方案	适用
烘焙阴影	Static 光，运行时免费
传统 CSM / 逐物体阴影	不用 Nanite 的项目（Nanite 不支持 pre-shadow 与 inset shadow）
虚拟阴影贴图	用 Nanite 就必须用它或全 Movable 光（见 VSM）
Distance Field Shadows	方向光的远距离阴影，与 VSM 并行用于非 Nanite 几何
光追阴影	质量最高，优先级高于 VSM

4. 烘焙的代价（常被低估）

代价	说明
烘焙时间	大场景以小时计；GPU Lightmass 能显著加速
包体	光照贴图是实打实的资源体积
内存	光照贴图常驻
迭代速度	改一盏灯要重新烘焙，美术反馈周期变长
不能动态变化	昼夜循环、可破坏光照都做不了
与 Nanite 的关系	官方建议：不用 Lightmass 烘焙 GI 时关闭 Generate Lightmap UVs（省时间也省一套 UV）

关掉静态光照的额外收益（见 Lumen）：Allow Static Lighting 关闭后省掉一部分 shader permutation，并且允许 Material Ambient Occlusion 与 Lumen GI 一起工作。

5. 参数与控制台变量

设置 / CVar	作用
`Allow Static Lighting`（项目设置）	关闭可省 permutation 并启用 Material AO
`Force No Precomputed Lighting`（World Settings）	移除已有 lightmap（需重建光照并保存关卡）
`Generate Lightmap UVs`（导入）	不用烘焙 GI 时应关闭
`Lighting Quality`（构建）	Preview / Medium / High / Production
`r.Lightmass.*` / GPU Lightmass 设置	烘焙质量与速度
`r.SSGI.*`	SSGI 质量
`r.DistanceFieldAO.*`	DFAO（Lumen 会取代它）
`stat lightmap` / `Lightmap Density` 视图	光照贴图密度检查
`r.Shadow.*`	阴影相关（VSM 系列见 VSM）

6. 代价与权衡

选择	收益	代价	什么时候不该用
烘焙	运行时免费、移动端唯一现实选择	烘焙时间、包体、不能动态	需要昼夜循环/可破坏环境时不可行
Lumen	免烘焙、全动态	固定 GPU 成本，且互斥于静态光照	低端平台、移动端
SSGI	便宜	只能看到屏幕内，需与烘焙叠加	单独使用会有明显缺信息
Reflection Capture	便宜	静态、位置敏感，反射内容是"环境"不是"当前画面"	需要反射动态物体时不行
SSR	便宜	画面外全丢	反射画面外内容时不可用
光追 GI / 反射	质量最高	官方已弃用	新项目不应基于它设计

7. 踩坑与排查

坑	现象	怎么验证
开了 Lumen 后烘焙光没了	全变暗	设计如此（见 Lumen）；要保留烘焙就只用 Lumen Reflections
Stationary 光的阴影行为变了	切 VSM 后	VSM 下 Stationary 直接光按动态算，只有间接是烘焙的
用了 Nanite 但阴影不对	阴影缺失	Nanite 不支持 pre-shadow / inset shadow → 必须用 VSM 或 Movable 光
光照贴图还在占包体	关了 Lumen 但没清	需要 `Force No Precomputed Lighting` + 重建 + 保存
烘焙极慢	项目大	用 GPU Lightmass；检查 Lightmap Density 是否过高
反射里看不到画面外	用了 SSR	换 Lumen 或加 Reflection Capture
包体异常	光照贴图大	降 Lightmap 分辨率、减少 lightmap 物体
开了 Lumen 但 Material AO 无效	不生效	需要先关 `Allow Static Lighting` 腾出 GBuffer 空间
导入 Nanite 网格特别慢	导入耗时长	不用烘焙 GI 就关 `Generate Lightmap UVs`

8. 排查顺序

1. 先确认选的是哪条路线：烘焙 还是 Lumen？
   └─ 这个决定错了，后面所有调参都是白费
2. 烘焙线：Lightmap Density → 烘焙质量 → 包体/内存
3. Lumen 线：走 [Lumen](/add078a2.html)
4. 阴影问题：
   ├─ 用了 Nanite？→ 必须 VSM 或 Movable
   └─ 没用 Nanite？→ 传统路径或 VSM（见 VSM 篇的适用性判断）
5. 反射问题：先判断是不是"画面外信息缺失"→ 是就换方案

参考

Lumen（动态 GI 与反射的完整说明）
虚拟阴影贴图（阴影方案与 Nanite 的强制关系）
Nanite（平台与特性限制）
后处理与体积（GI/反射方法在 Post Process Volume 里的选择）
Cook 与打包流程（烘焙与打包）